Etude et modélisation d’un transistor HEMT AlGaN/GaN

dc.contributor.authorAbdelmoumene, Mestariaen_US
dc.date.accessioned2013-06-19T13:54:09Zen_US
dc.date.available2013-06-19T13:54:09Zen_US
dc.date.issued2012-06en_US
dc.description.abstractDurant ces dernières années, le développement des composées III-V a été spectaculaire. En effet, ces composés présentent des performances bien supérieures à celles des semiconducteurs plus classiques comme le silicium. Ce sont des matériaux de choix pour toutes les applications microélectroniques et optoélectroniques. Or les caractéristiques de ces matériaux et de leurs composants sont sensibles à l’état de surface et à l’interface. L’étude du fonctionnement des différents types de composants électroniques passe par une maîtrise préalable des phénomènes physiques régissant les propriétés des électrons dans le semiconducteur. Il est donc essentiel de comprendre les mécanismes de formation des héterostructures et des nanostructures pour maîtriser au mieux la technologie des composants réalisés, à l'heure où les nanotechnologies ouvrent de nouvelles voiesen_US
dc.identifier.urihttps://dspace.univ-tlemcen.dz/handle/112/2427en_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversity of Tlemcenen_US
dc.titleEtude et modélisation d’un transistor HEMT AlGaN/GaNen_US
dc.typeThesisen_US

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