Analyse du Phénomène de Transport Electronique dans l’InAs et le GaAs par la méthode de Monte Carlo pour la conception d’un transistor PHEMT

dc.contributor.authorAmer, Len_US
dc.contributor.authorSayah, Cen_US
dc.contributor.authorBouazza, Ben_US
dc.contributor.authorGuen Bouazza, Aen_US
dc.contributor.authorChabane Sari, Neen_US
dc.contributor.authorGontrand, Cen_US
dc.date.accessioned2012-05-24T14:22:22Zen_US
dc.date.available2012-05-24T14:22:22Zen_US
dc.date.issued2003-09-29en_US
dc.descriptionConférence Internationale sur les Systèmes de Télécommunication , d’Electronique Médicale et d’Automatique, CISTEMA’2003en_US
dc.description.abstractLe transistor à effet de champ (TEC) est un des composants majeurs utilisé dans les dispositifs électroniques, les premiers transistors (TEC) ont été réalisés en silicium, qui fonctionne avec des fréquences maximales de l’ordre de 1 à 3 Ghz. Afin de disposer de composants pouvant fonctionner à des fréquences plus élevées, le silicium était remplacé par le GaAs. Il possède une mobilité électronique six fois plus élevée que le silicium. Les principaux dispositifs TECs en AsGA utilisés aux fréquences micro-ondes sont les MESFETs pour des applications ne dépassant pas les 30 Ghz, et les HEMTs pour des fréquences plus élevées (100-300 Ghz). Dans le but d’obtenir des performances plus élevées en gain et en fréquence, nous avons effectué une étude électronique comparative entre le GaAs et l’InAs, du point de vue énergétique et dynamique, puis on a changé la couche non dopé du GaAs utilisé dans la réalisation d’un transistor HEMT par une couche de l’InAs.en_US
dc.identifier.urihttps://dspace.univ-tlemcen.dz/handle/112/869en_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversity of Tlemcenen_US
dc.subjectSemiconducteurs III-Ven_US
dc.subjectstructure de bandeen_US
dc.subjecttransistors HEMT et PHEMTen_US
dc.titleAnalyse du Phénomène de Transport Electronique dans l’InAs et le GaAs par la méthode de Monte Carlo pour la conception d’un transistor PHEMTen_US
dc.typeArticleen_US

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