Étude de la contribution des doubles couches antireflets dans l’amélioration des cellules solaires conventionnelles à base de silicium multicristallin

Abstract

Depuis une dizaine d’années, le dépôt d’une couche antireflet en nitrure de silicium hydrogéné (SiNx : H) par la méthode de plasma (PECVD) constitue un moyen efficace et peu coûteux pour assurer une faible réflectivité et une bonne passivation des cellules photovoltaïques en silicium, mais pour une CAR la réflectivité nulle ne peut avoir lieu que pour une seule longueur d’onde et elle dépend de la longueur d’onde. Pour cela, une application d’une DCAR combinant deux matériaux le nitrure et l’oxyde de silicium SiON /SiN sur la face avant des cellules est une voie envisagée pour améliorer leurs propriétés de passivation et de réflexion et donc leur rendement de conversion. Ce travail, consiste à rechercher une meilleure configuration des doubles couches antireflets permettant d’améliorer efficacement les performances électrique et spectrales des cellules solaire conventionnelles à base de si.