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Titre: DÉPOT MÉTALLIQUE PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE ÉTUDE ET RÉALISATION.
Auteur(s): MELLAH, Abdellah
Mots-clés: couches minces, PVD, pulvérisation cathodique, évaporation thermique.
Date de publication: 2-jui-2014
Résumé: Le but de ce travail, est l’élaboration couches minces par pulvérisation cathodique, Dans la première partie de ce travail nous avons mis au point les deux techniques de Dépôt Physique en Phase Vapeur (PVD), la pulvérisation cathodique et l’évaporation thermique. La deuxième partie, présente l'étude expérimentale et un descriptif de l’équipement de dépôt par pulvérisation cathodique "EDWARDS SCANCOAT SIX", son mode opératoire, les paramètres étudiés sont le débit de gaz d’argon, la haute tension, le temps de dépôt des couches minces vu leurs influences sur l’épaisseur de la couche mince déposée. La troisième partie, les résultats obtenus et interprétations. Pour la partie expérimentale, l’étude sera faite sur un substrat en verre de dimension (40x40) mm, et un masque de même dimension comportant un trou circulaire de diamètre 10mm afin de focaliser la déposition et faciliter le calcul de l’épaisseur.
URI/URL: http://dspace.univ-tlemcen.dz/handle/112/5231
Collection(s) :Master physique

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