Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : http://dspace1.univ-tlemcen.dz/handle/112/14592
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dc.contributor.authorRahou, fatima Zohra-
dc.date.accessioned2019-10-21T09:52:48Z-
dc.date.available2019-10-21T09:52:48Z-
dc.date.issued2015-11-21-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-tlemcen.dz/handle/112/14592-
dc.description.abstractAfin de continuer l'amélioration des performances du transistor MOSFET à l'échelle nanométrique,la recherche en microélectronique explore différentes solutions. La technologie SOI offre l'opportunité d'intégrer des dispositifs présentant de hautes performances et/ou des éléments éléments innovants qui peuvent repousser les frontières d'intégration des technologies CMOS sur substrat massif.Néanmoins, pour des architectures aux longueurs de grille inférieures à 50 nm,l'utilisation de la intéressés dans ce travail qui présente les avancées provoquées par l'utilisation de telles architectures.Dans ce contexte particulier, de nouvelles solutions sont étudiées pour permettre d'optimiser les futures générations de composants.en_US
dc.language.isofren_US
dc.subjecttransistors MOSFET,technologie SOI,effet canaux courts, SOI MOSFET multi-grillesen_US
dc.subjectHigh-K diélectriques,Silvaco Softwareen_US
dc.titleEtude, conception et simulation des performances des MOSFET à grille multiple sur SOI MUGFET SOIen_US
dc.typeThesisen_US
Collection(s) :Doctorat LMD en GEE G.Indistruelle G.Productique

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